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光刻膠mr-NIL212FC 系列——專為高精度軟紫外納米壓印設(shè)計的革命性解決方案 產(chǎn)品核心優(yōu)勢： 快速固化技術(shù)（FC）：專為 200 nm 以下微細(xì)結(jié)構(gòu) 優(yōu)化，即使低強度紫外光源（如 LED）也能實現(xiàn)高效固化，顯著提升生產(chǎn)效率。 Excellence刻蝕穩(wěn)定性：相比標(biāo)準(zhǔn)型號（mr-NIL210），對 SiO? 等難刻蝕基材 的兼容性更強，圖案轉(zhuǎn)移精度更高。 PDMS 印章最佳搭

高分辨率：支持 ＜100 nm 結(jié)構(gòu)壓印（如mr-NIL212FC可實現(xiàn)200nm柱陣列）。 量產(chǎn)適配： UV-NIL：室溫低壓（＜100 mbar），適合大面積和連續(xù)生產(chǎn)（R2R）。 T-NIL：熱塑性/熱固性 可選，平衡效率與穩(wěn)定性。 工藝靈活性： 可搭配 LOR 光刻膠實現(xiàn)金屬納米結(jié)構(gòu)剝離（Lift-off）。 通過 SiPOL 硅含量樹脂實現(xiàn)圖案放大，用于深槽刻蝕。

納米壓印膠 mr-NIL200 系列——專為高精度圖案轉(zhuǎn)移設(shè)計的紫外光固化解決方案。自粘附配方，無需底涂，專為硬質(zhì)印章（石英/OrmoStamp®）設(shè)計。

mr-NIL210系列是一款專為軟紫外納米壓印技術(shù)（soft UV-NIL）設(shè)計的光固化納米壓印膠，特別適配于PDMS類軟質(zhì)印章材料（推薦使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章）。其高精度、易操作的特性，使其成為圖案轉(zhuǎn)移工藝中理想的蝕刻掩模材料。

公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料，熱壓型納米壓印膠、熱塑型納米壓印膠、紫外光固化型納米壓印膠、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術(shù)相關(guān)的化學(xué)藥品，如模板防粘劑、基片增粘劑等。

德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。