EM Resist SU-8負性抗蝕劑產(chǎn)品，非常適合半導體應用。我們的產(chǎn)品有各種形式和厚度范圍。

產(chǎn)品                  膜厚范圍            涂層選項

GM1010           <0.2微米           噴涂外套

GM1020           0.2-0.5微米      旋轉，噴涂，噴墨

GM1030           0.5-1.2微米      旋轉，噴涂，噴墨

GM1040           0.9-3.2微米      旋轉，噴涂，噴墨

GM1050            3-8微米              旋轉，噴墨

GM1060            2-27微米            旋轉，噴墨

GM1070           15-200微米         旋轉，噴墨

GM1075           100-400微米       旋轉，噴墨

小訂購量為250mL

SML Resist是一種高分辨率，高縱橫比的正色調電子束抗蝕劑。EM Resist SU-8負性抗蝕劑具有出色的附著力和出色的抗干蝕刻性。SML可用于MEMS，波帶片，光子學和許多其他納米加工應用

SML電子束抗蝕劑的厚度范圍從50nm到2μm，起始體積僅為50mL。

高性能SML電子束抗蝕劑是一種新型聚合物，專為滿足EBL社區(qū)的需求而設計。即使在低加速電壓下，也無需借助鄰近效應校正，就可以同時將其圖案化為高分辨率和高長寬比的圖案。

SML抗蝕劑經(jīng)過專門設計，可與標準PMMA工藝配合使用。無需更改化學或過程培訓。

產(chǎn)品范圍–厚度

SML50：40nm – 100nm

SML100：90nm – 210nm

SML300：250nm – 600nm

技術指標

高分辨率：<10nm

*的寬高比：

30 kV時> 10：1

> 50：1 @ 100 kV

厚度：50 nm – 2000 nm

PMMA抗蝕劑是用于電子束光刻的行業(yè)標準正性抗蝕劑。我們提供各種分子量和厚度的PMMA。

PMMA Resist是行業(yè)標準的電子束抗蝕劑，廣泛用于學術界和工業(yè)，用于高分辨率功能和剝離應用。它也可以用于納米壓印應用以及其他晶圓廠和研發(fā)過程，例如石墨烯薄片轉移。