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簡要描述：MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner ），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號：MPEM-1600 廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2025-06-06訪 問 量：3315詳細(xì)介紹
一、掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner產(chǎn)品簡介：
| MPEM-1600 | MPEM-12M | MPEM-16M | |
光罩尺寸 | 多5英寸 | 多7英寸 | 多9英寸 | |
晶圓尺寸 | 高達(dá)4英寸（無定形） | 高達(dá)6英寸（無定形） | 高達(dá)8英寸（無定形） | |
面罩架滑動 | 手動卡盤 | |||
面具運(yùn)動 | X =±3毫米，Y =±3毫米 | |||
接觸 | 方法 | 軟接觸/硬接觸/接近暴露 |
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照明 | 250W超高壓蒸氣汞燈 | 500W超高壓蒸氣汞燈 | ||
照明不規(guī)則 | ±5％ | |||
有效接觸面積 | 直徑100毫米 | 直徑150毫米 | 直徑200毫米 | |
解析度 | 3mµ L / S | |||
對準(zhǔn) | 方法 | 目鏡觀察（精神領(lǐng)域系統(tǒng)） | 9英寸視頻 監(jiān)控系統(tǒng) | |
物鏡 | 10X兩對（上/下） | |||
目鏡 | NWF 10X（一對） | -- | ||
總放大倍率 | 100倍 | 200倍 | ||
物鏡分離 | 15?90毫米 | 80?140毫米 | 55?184毫米 | |
聚焦單元 | 手冊 | |||
對準(zhǔn)范圍 | X，Y =±4mmθ | X，Y =±4mmθ | ||
對齊間隙 | 09?99微米 | |||
對準(zhǔn)精度 | 小于±5mm | |||
實(shí)用工具 | 主機(jī)電源 | 100-220V AC，50 / 60Hz，15A（600W） | ||
水銀燈電源 | 100-220V AC，50 / 60Hz，15A（550W） | 100-220V，50 / 60Hz，15A（1,100W） | ||
氮?dú)?/span> | 0.4?0.5兆帕 | 100-220V AC，50 / 60Hz，15A（1,100W） | ||
真空壓力 | 小于21.3kPa | |||
尺寸（主機(jī)） | 750（ 寬）x | 940（ 寬）x | 1,200（ 寬）x | |
凈重 | 大約 450公斤 | 大約 550公斤 | 大約 700公斤 | |
選件 | NWF 15X目鏡（一對） | -- | ||
MPEM-1600 | MPEM-12M | MPEM-16M |
（適用 | （適用 | （適用 |
*除上述以外，還提供電動MPEM-2000 / 4000型和全自動MPEM-8M / 12M型。
產(chǎn)品咨詢
聯(lián)系人：鄧經(jīng)理
地址：洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
郵箱：sales@mycroinc.com
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