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      SEMI-KLEEN 等離子清洗儀

      簡要描述:遠(yuǎn)程等離子清潔的原理
      遠(yuǎn)程等離子源需安裝在要被清潔的真空腔室上,控制器向遠(yuǎn)程離子源提供射頻能量。射頻電磁場能激發(fā)等離子體,分解輸入氣體而產(chǎn)生氧或氫的活性基,活性基會(huì)擴(kuò)散到下游的真空腔室,并與其中的污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng),反應(yīng)產(chǎn)物能輕易地被抽走。遠(yuǎn)程等離子清洗機(jī)可同時(shí)清潔真空系統(tǒng)和樣品。

      • 產(chǎn)品型號(hào):SEMI-KLEEN
      • 廠商性質(zhì):代理商
      • 更新時(shí)間:2025-06-05
      • 訪  問  量:1902

      詳細(xì)介紹

      污染物對(duì)電子顯微鏡SEM/TEM和其它高真空系統(tǒng)產(chǎn)生的影響

      潤滑劑、真空脂、泵油樣品中的高分子聚合物,或未經(jīng)處理的空氣都會(huì)把碳?xì)湮廴疚镆秸婵障到y(tǒng)中。低蒸汽壓下高分子重污染物會(huì)凝聚在樣品表面和腔室壁上,而使用普通氣體吹掃方法很難把碳?xì)湮廴疚锴宄?/span>

      電子和高能光子(EUV, X-ray)能夠分解存在于真空系統(tǒng)中或樣品上的碳?xì)湮廴疚?。碳?xì)浠衔锏姆纸猱a(chǎn)物沉積在被觀測的樣品表面或電子光學(xué)部件上。這種碳?xì)湮廴境练e會(huì)降低EUV的鏡面反射率,降低SEM圖像對(duì)比度和分辨率,造成錯(cuò)誤的表面分析結(jié)果,沉積在光闌或其它電子組件的不導(dǎo)電碳?xì)湮廴疚锷踔習(xí)斐呻娮邮恢没蚓劢咕徛?。?/span>ALD系統(tǒng)中,樣品表面的碳?xì)湮廴疚镞€會(huì)降低薄膜的界面匹配質(zhì)量。

      遠(yuǎn)程等離子清潔的原理

      遠(yuǎn)程等離子源需安裝在要被清潔的真空腔室上,控制器向遠(yuǎn)程離子源提供射頻能量。射頻電磁場能激發(fā)等離子體,分解輸入氣體而產(chǎn)生氧或氫的活性基,活性基會(huì)擴(kuò)散到下游的真空腔室,并與其中的污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng),反應(yīng)產(chǎn)物能輕易地被抽走。遠(yuǎn)程等離子清洗機(jī)可同時(shí)清潔真空系統(tǒng)和樣品。

      技術(shù)特點(diǎn):

      快速清潔被污染的SEM樣品。2-60秒氫等離子體清潔ALD樣品。不需減速或關(guān)閉渦輪分子泵

      低等離子偏壓設(shè)計(jì)減少離子濺射和顆粒生成。結(jié)合多級(jí)氣體過濾技術(shù),SEMI-KLEEN能夠滿足用戶苛刻的顆粒污染清除要求

      可選藍(lán)寶石管腔體和耐腐蝕性氣體的流量控制器,以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等應(yīng)用

      *的等離子強(qiáng)度傳感器可實(shí)時(shí)監(jiān)測等離子狀態(tài),用戶對(duì)等離子狀態(tài)一目了然

      基于壓力傳感回饋控制的自動(dòng)電子流量控制器,無需手動(dòng)調(diào)節(jié)針閥

      直觀的觸摸屏操作,可定義60條清洗程序方案

      擁有智能安全操作模式和專家控制模式;SmartScheduleTM定時(shí)裝置,通過檢測樣品裝載次數(shù)或時(shí)間間隔來定時(shí)清潔系統(tǒng)

       技術(shù)指標(biāo)

      1. 等離子源真空接口:NW/KF40 法蘭; 提供轉(zhuǎn)接法蘭;

      2. 標(biāo)配等離子強(qiáng)度傳感器;

      3. 等離子源低點(diǎn)火起輝氣壓:<0.1毫托;

      4. 等離子源高工作氣壓:>1.0 托;

      5. 漏氣率:<0.005sccm;

      6. 射頻輸出:0~100瓦,連續(xù)可調(diào)節(jié);

      7. 具有射頻自動(dòng)匹配功能

      8. 電源和功率:220V, 50Hz,

      低電磁干擾設(shè)計(jì),安靜的待機(jī)模式

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