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      MicroChem光刻膠靈敏度能量

      更新時(shí)間:2017-11-16      點(diǎn)擊次數(shù):2206
        MicroChem光刻膠靈敏度能量
        
        MicroChem光刻膠成分分析:通過(guò)多種大型儀器聯(lián)用獲得相關(guān)譜圖,比對(duì)譜圖數(shù)據(jù)庫(kù)分析出組分及含量;
        
        MicroChem光刻膠配方還原:通過(guò)產(chǎn)品各組分組成及其比例,分析出產(chǎn)品基礎(chǔ)配方;
        
        MicroChem光刻膠異物診斷:就產(chǎn)品中的異物,確定其主要組成成分,分析物質(zhì)產(chǎn)生途徑;
        
        MicroChem光刻膠性能改進(jìn):針對(duì)產(chǎn)品常見(jiàn)的問(wèn)題,通過(guò)分析基礎(chǔ)配方找出相關(guān)性能差的原因并提出改進(jìn)建議。
        
        據(jù)光刻膠按照如何響應(yīng)紫外光的特性可以分為兩類。
        
        正膠
        
        曝光前對(duì)顯影液不可溶,而曝光后變成了可溶的,能得到與掩模板遮光區(qū)相同的圖形。
        
        優(yōu)點(diǎn):分辨率高、對(duì)比度好。
        
        缺點(diǎn):粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。
        
        靈敏度:曝光區(qū)域光刻膠*溶解時(shí)所需的能量
        
        負(fù)膠
        
        與正膠反之。
        
        優(yōu)點(diǎn):良好的粘附能力和抗刻蝕能力、感光速度快。
        
        缺點(diǎn):顯影時(shí)發(fā)生變形和膨脹,導(dǎo)致其分辨率。
        
        靈敏度:保留曝光區(qū)域光刻膠原始厚度的50%所需的能量。
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