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      MicroChem光刻膠有哪些地方適用情況

      更新時間:2017-08-17      點擊次數(shù):4257
         MicroChem光刻膠有哪些地方適用情況
        
        MicroChem光刻膠也稱為光致抗蝕劑,是一種光敏材料,它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。
        
        光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過曝光后,受到光照的部分變得容易溶解,經(jīng)過顯影后被溶解,只留下未受光照的部分形成圖形;而負(fù)膠卻恰恰相反,經(jīng)過曝光后,受到光照的部分會變得不易溶解,經(jīng)過顯影后,留下光照部分形成圖形。
        
        負(fù)膠在光刻工藝上應(yīng)用zui早,其工藝成本低、產(chǎn)量高,但由于它吸收顯影液后會膨脹,導(dǎo)致其分辨率(即光刻工藝中所能形成zui小圖形)不如正膠,因此對于亞微米甚至更小尺寸的加工技術(shù),主要使用正膠作為光刻
        
        MicroChem光刻膠使用注意事項:
        
        ①若腐蝕液為堿性,則不宜用正性光刻膠
        
       ?、诳垂饪虣C型式,若是投影方式,用常規(guī)負(fù)膠時氮氣環(huán)境可能會有些問題
        
       ?、圬?fù)性膠價格成本低,正性膠較貴
        
       ?、芄に嚪矫妫贺?fù)性膠能很好地獲得單根線,而正性膠可獲得孤立的洞和槽
        
       ?、萁】捣矫妫贺?fù)性膠為有機溶液處理,不利于環(huán)境;正性膠屬于水溶液,對健康、環(huán)境無害
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