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      MicroChem光刻膠滿足客戶需求反應(yīng)作用

      更新時(shí)間:2018-01-16      點(diǎn)擊次數(shù):2130
        MicroChem光刻膠滿足客戶需求反應(yīng)作用
        
        MicroChem光刻膠廣泛應(yīng)用于在處理多種數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和無(wú)線芯片到MEMS的金屬剝離MicroChem光刻膠在超出單層防腐可以延長(zhǎng)限制剝離處理。這包括非常高的分辨率的金屬化(<0.25µM),以及非常厚(>4µm)金屬化。這些*的材料可幾乎滿足任何客戶需要。
        
        MicroChem光刻膠材料用途:金屬電梯加工,橋制造,釋放層。
        
        曝光過(guò)程中,MicroChem光刻膠中的感光劑發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),從而使正膠的感光區(qū)、負(fù)膠的非感光區(qū)能夠溶解于顯影液中。正性光刻膠中的感光劑DQ發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),變?yōu)橐蚁┩?,進(jìn)一步水解為茚并羧酸(Indene-Carboxylic-Acid,簡(jiǎn)稱ICA),羧酸對(duì)堿性溶劑的溶解度比未感光的感光劑高出約100倍,同時(shí)還會(huì)促進(jìn)酚醛樹(shù)脂的溶解。于是利用感光與未感光的光刻膠對(duì)堿性溶劑的不同溶解度,就可以進(jìn)行掩膜圖形的轉(zhuǎn)移。
        
        刻蝕或離子注入之后,已經(jīng)不再需要光刻膠作保護(hù)層,可以將其除去,稱為去膠,分為濕法去膠和干法去膠,其中濕法去膠又分有機(jī)溶劑去膠和無(wú)機(jī)溶劑去膠。有機(jī)溶劑去膠,主要是使光刻膠溶于有機(jī)溶劑而除去;無(wú)機(jī)溶劑去膠則是利用光刻膠本身也是有機(jī)物的特點(diǎn),通過(guò)一些無(wú)機(jī)溶劑,將光刻膠中的碳元素氧化為二氧化碳而將其除去;干法去膠,則是用等離子體將光刻膠剝除。
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